CIP在位清洗系统的详细资料：

CIP在位清洗系统产品简介

是药品生产中卫生标准的前提条件之一，它可以消除活性成分交叉污染，消除异物不溶性微粒。降低或消除微生物及热源对药品的污染。CGMP要求尽力推荐制药工业使用CIP在线清洗系统。我公司产品具有自动化程度高、操作简便，清洗*、安全性高、价格合理等优点。

CIP在位清洗系统主要构成

主要有单个或多个清洗液贮罐及管道、分布器、增压泵、回流泵、气动控制阀、酸碱计量泵、板式换热器、温度控制仪、电导率检测仪、液位控制仪、PLC触摸屏及控制柜等部件组成。

主要特点

•  CGMP设计紧凑、安装、维护和调试简便；气动元件及电器元件全部采用进口，性能稳定可靠；用功能块组成的模块结构，可分手控、自控选择、触摸屏提示操作，直观易懂；
•  清除药物残留，防止微生物污染，避免批次之间的影响；
•  符合CGMP要求，实现清洗工序的验证；
•  能使生产计划合理化及提高生产能力；
•  按程序安排步骤进行，与手洗作业比较，能有效的防止操作失误，提高清洗效率，减少劳动强度，节省劳动力提高药品质量；
•  使清洗成本降低、水、清洗剂及蒸汽的耗量少；
•  能增加机器部件的使用年限；
•  安全可靠、设备无须拆卸。

产品说明

CIP清洗系统是指设备（罐体、管道、泵、过滤器等）及整个生产线在无需人工拆卸或打开的前提下，在一个预定时间内，将一定温度的清洁液通过密闭的管道对设备内表面进行喷淋循环而达到清洗的目的，特称CIP在线清洗系统（Cleaning in place）。一个稳定的CIP在线清洗系统在于优良的设计，包括设备、管道、操作规程、清洗剂配方、自动控制和监控要求的一整套技术系统等。根据清洗系统的实际情况，确定合适的清洗程序，包括清洗条件确定，清洗剂选择、回收设计。并对清洗过程中关键参数和条件（如时间、温度、流量、电导率）的记录、打印，做为设备清洗过程的验证。